pH值對(duì)光致抗蝕劑的性能也有重大的影響，低pH值有助于少的側(cè)蝕(較高的蝕刻系數(shù))。

高pH值一般是針對(duì)快速蝕刻而言的。系統(tǒng)每天都開(kāi)，但板子不是連續(xù)運(yùn)行的，所以水會(huì)因揮發(fā)造成損失，但這種損失遠(yuǎn)少于從NH OH添加液中獲得的量。所以當(dāng)pH值過(guò)高時(shí)，必須增加排氣量，升高銅含量或降低補(bǔ)充液中的總堿度，高pH值有助于較多的銅的溶解。 高pH值會(huì)產(chǎn)生較大的側(cè)蝕并會(huì)影響到一些光致抗蝕劑的性能，特別是水溶性光致抗蝕劑，氨水或NH 4OH的添加通常是由一個(gè)pH感應(yīng)控制系統(tǒng)自動(dòng)完成的。因?yàn)?/span>NH 4OH含水，所以水的補(bǔ)加就必須保持平衡，以確保添加的水不會(huì)使氯離子或銅的濃度降低到它們的推薦值下面。

當(dāng)堿性蝕刻液的pH值較高時(shí)，一些水溶性的抗蝕劑就會(huì)軟化，甚至被剝除。因此，較低的pH值可以被應(yīng)用于精細(xì)線路的蝕刻。如果pH值過(guò)低，必須通過(guò)降低排氣，降低銅含量，加入氨水或增加補(bǔ)充液中的總堿度。溶液的pH值在銅的可溶性控制、蝕刻速率和側(cè)蝕方面非常關(guān)鍵。補(bǔ)充液中的NH4OH提供了大量的需要維持堿性的pH值(遠(yuǎn)高于7．0)的基礎(chǔ)液，但額外需要的氨水要求達(dá)到推薦的pH值范圍(遠(yuǎn)大于7．0)。相反，低pH值是針對(duì)慢速蝕刻的。當(dāng)氨水中不含會(huì)攪亂系統(tǒng)平衡性的水時(shí)，氨氣在pH值的控制下會(huì)工作得很好，但使用時(shí)是相當(dāng)危險(xiǎn)的。因此，高pH值的堿性蝕刻劑一般運(yùn)用于高產(chǎn)率的生產(chǎn)。然而，對(duì)于一個(gè)給定的堿性蝕刻體系，pH值必須高于最低值(依賴于銅的濃度)， 目的是為了維持溶液中的銅鹽含量

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